ハードマスク用除去組成物および除去方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20090551574

申请日：

2009-01-29

公开(公告)号：

JPWO2009096480A1

公开(公告)日：

2011-05-26

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/304

IPC分类号：

H01L21/027

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法律状态信息

共 50 条

[1]

ハードマスクの除去用組成物及び除去方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007020979A1 ,2009-02-26

[2]

金属酸化物ハードマスクの選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP2024501054A ,2024-01-10

[3]

金属酸化物ハードマスクの選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP7634101B2 ,2025-02-20

[4]

有害酸化物除去剤および有害酸化物の除去方法[ja] [P].

KAWASAKI REO ;

SAKAI SAYA ;

CHIBA MASAKI .

日本专利 :JP2024012104A ,2024-01-25

[5]

組成物、ペーストおよび方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022553210A ,2022-12-22

[6]

ハードコート層形成用組成物、および、光学部材[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017110522A1 ,2018-11-22

[7]

窒素酸化物除去装置および窒素酸化物除去方法[ja] [P].

日本专利 :JP5837548B2 ,2015-12-24

[8]

窒素酸化物除去装置および窒素酸化物除去方法[ja] [P].

日本专利 :JP5628968B2 ,2014-11-19

[9]

ハードコート層形成用組成物および光学レンズ[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007046357A1 ,2009-04-23

[10]

窒素酸化物の除去方法および窒素酸化物除去装置[ja] [P].

日本专利 :JP2018525208A ,2018-09-06

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