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金属酸化物ハードマスクの選択的除去[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230539805
申请日
:
2021-12-22
公开(公告)号
:
JP7634101B2
公开(公告)日
:
2025-02-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
C11D7/08
C11D7/26
C11D7/28
H01L21/306
H01L21/308
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
金属酸化物ハードマスクの選択的除去[ja]
[P].
日本专利
:JP2024501054A
,2024-01-10
[2]
金属酸化物のハードマスクの形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5913965B2
,2016-05-11
[3]
金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja]
[P].
日本专利
:JP2022506677A
,2022-01-17
[4]
金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja]
[P].
日本专利
:JP7503547B2
,2024-06-20
[5]
ハードマスクの除去用組成物及び除去方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007020979A1
,2009-02-26
[6]
ハードマスク用除去組成物および除去方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009096480A1
,2011-05-26
[7]
基板の選択的酸化[ja]
[P].
日本专利
:JP2025534307A
,2025-10-15
[8]
金属表面上の金属酸化物の選択的堆積[ja]
[P].
日本专利
:JP7523936B2
,2024-07-29
[9]
金属膜上の表面酸化物を選択的に除去する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025522381A
,2025-07-15
[10]
蒸着金属酸化物含有ハードマスクのEUVフォトパターニング[ja]
[P].
日本专利
:JP6902849B2
,2021-07-14
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