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蒸着金属酸化物含有ハードマスクのEUVフォトパターニング[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160220096
申请日
:
2016-11-11
公开(公告)号
:
JP6902849B2
公开(公告)日
:
2021-07-14
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/004
IPC分类号
:
C23C16/40
G03F7/20
G03F7/32
H01L21/3065
H01L21/316
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
蒸着金属酸化物含有ハードマスクのEUVフォトパターニング[ja]
[P].
日本专利
:JP7282830B2
,2023-05-29
[2]
ハーフトーンマスク、ハーフトーンマスクブランクス、及びハーフトーンマスクの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009057660A1
,2011-03-10
[3]
フォトニックデバイスのパターニング方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024537838A
,2024-10-16
[4]
金属酸化物のハードマスクの形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5913965B2
,2016-05-11
[5]
パターニングされた金属酸化物フォトレジストの線量減少[ja]
[P].
日本专利
:JP7524303B2
,2024-07-29
[6]
パターニングされた金属酸化物フォトレジストの線量減少[ja]
[P].
日本专利
:JP2022542170A
,2022-09-29
[7]
EUVパターニング用の金属酸化物レジスト及びその現像方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025528003A
,2025-08-26
[8]
金属酸化物ハードマスクの選択的除去[ja]
[P].
日本专利
:JP7634101B2
,2025-02-20
[9]
金属酸化物ハードマスクの選択的除去[ja]
[P].
日本专利
:JP2024501054A
,2024-01-10
[10]
EUVパターニングにおける欠陥低減のための多層ハードマスク[ja]
[P].
日本专利
:JP2023516588A
,2023-04-20
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