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ハーフトーンマスク、ハーフトーンマスクブランクス、及びハーフトーンマスクの製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20090513913
申请日：
2008-10-29
公开(公告)号：
JPWO2009057660A1
公开(公告)日：
2011-03-10
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F1/00
IPC分类号：
G03F1/54 H01L21/027
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
蒸着金属酸化物含有ハードマスクのＥＵＶフォトパターニング[ja] [P]. 
日本专利 :JP6902849B2 ,2021-07-14
[2]
蒸着金属酸化物含有ハードマスクのＥＵＶフォトパターニング[ja] [P]. 
日本专利 :JP7282830B2 ,2023-05-29
[3]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
TAKI SHUNYA ;
IWAOKA KEIMEI ;
AKAGI DAIJIRO ;
ISHIKAWA ICHIRO .
日本专利 :JP2024107472A ,2024-08-08
[4]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
SEI RYOSUKE .
日本专利 :JP2025037417A ,2025-03-18
[5]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7315123B1 ,2023-07-26
[6]
反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010074125A1 ,2012-06-21
[7]
フォトマスクブランク及びその製造方法、並びにフォトマスク及び半導体装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010092899A1 ,2012-08-16
[8]
シリコーンエラストマー組成物及びエラストマー材料[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022533517A ,2022-07-25
[9]
クロマトグラフィー材料[ja] [P]. 
日本专利 :JP2015523905A ,2015-08-20
[10]
クランクシャフト及びクランクシャフトの製造方法[ja] [P]. 
ABE TATSUHIKO ;
SUEYASU YOKO ;
OKAWA AKIRA ;
WATARI KOJI .
日本专利 :JP2024040890A ,2024-03-26
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