金属膜上の表面酸化物を選択的に除去する方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240572381

申请日：

2023-04-14

公开(公告)号：

JP2025522381A

公开(公告)日：

2025-07-15

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/306

IPC分类号：

C23G5/032 C23G5/036 H10D64/01

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法律状态信息

共 50 条

[1]

金属膜を高選択的に堆積する方法[ja] [P].

日本专利 :JP7561127B2 ,2024-10-03

[2]

金属膜を高選択的に堆積する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022510331A ,2022-01-26

[3]

金属表面上の金属酸化物の選択的堆積[ja] [P].

日本专利 :JP7523936B2 ,2024-07-29

[4]

金属膜を形成する方法[ja] [P].

日本专利 :JP7521495B2 ,2024-07-24

[5]

金属膜を形成する方法、及び金属膜を形成する装置[ja] [P].

NASU KATSUYUKI ;

HIRASAWA TATSURO ;

YAMASAKI HIDEAKI ;

KOBAYASHI TAKASHI .

日本专利 :JP2025111148A ,2025-07-30

[6]

金属酸化物膜を形成する方法[ja] [P].

日本专利 :JP7265589B2 ,2023-04-26

[7]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

日本专利 :JP2020520126A ,2020-07-02

[8]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

EVA TOIS ;

VILJAMI J PORE ;

SUVI P HAUKKA ;

SUZUKI TOSHIYA ;

JIA LINGYUN ;

KIM SUN JA ;

ORESTE MADIA .

日本专利 :JP2023018059A ,2023-02-07

[9]

配線金属層の形成方法、金属を選択的に形成する方法、金属を選択的に形成する装置および基板装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003078678A1 ,2005-07-14

[10]

金属酸化物ハードマスクの選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP2024501054A ,2024-01-10

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