基板の選択的酸化[ja]

被引：0

申请号：

JP20250518038

申请日：

2023-09-26

公开(公告)号：

JP2025534307A

公开(公告)日：

2025-10-15

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/316

IPC分类号：

C23C16/40

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法律状态信息

共 50 条

[1]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

日本专利 :JP2020520126A ,2020-07-02

[2]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

EVA TOIS ;

VILJAMI J PORE ;

SUVI P HAUKKA ;

SUZUKI TOSHIYA ;

JIA LINGYUN ;

KIM SUN JA ;

ORESTE MADIA .

日本专利 :JP2023018059A ,2023-02-07

[3]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

日本专利 :JP7470173B2 ,2024-04-17

[4]

誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ[ja] [P].

日本专利 :JP7183187B2 ,2022-12-05

[5]

金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP2022506677A ,2022-01-17

[6]

金属シリサイドの選択的堆積及び酸化物の選択的除去[ja] [P].

日本专利 :JP7503547B2 ,2024-06-20

[7]

選択的触媒還元のための金属酸化物触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2024531288A ,2024-08-29

[8]

選択的堆積の方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023516857A ,2023-04-21

[9]

混合水酸化物沈殿物の選択的酸浸出[ja] [P].

日本专利 :JP2024544881A ,2024-12-05

[10]

金属表面上の金属酸化物の選択的堆積[ja] [P].

日本专利 :JP7523936B2 ,2024-07-29

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