ナノインプリント用レジスト下層膜形成組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20110524771

申请日：

2010-07-26

公开(公告)号：

JPWO2011013630A1

公开(公告)日：

2013-01-07

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/027

IPC分类号：

B29C59/02 C08G59/20 C08G77/14 C08G77/20

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

インプリント用下層膜形成組成物、インプリント用硬化性組成物、キット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019172156A1 ,2021-03-04

[2]

レジスト下層膜形成用組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014196509A1 ,2017-02-23

[3]

レジスト下層膜形成用組成物[ja] [P].

IGATA KOSUKE .

日本专利 :JP2024004449A ,2024-01-16

[4]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016063805A1 ,2017-08-03

[5]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

ENDO TAKAFUMI ;

TOKUNAGA HIKARU ;

HASHIMOTO KEISUKE ;

SAKAMOTO RIKIMARU .

日本专利 :JP2025016600A ,2025-02-04

[6]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018203540A1 ,2020-03-19

[7]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017187969A1 ,2019-02-28

[8]

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020111068A1 ,2021-10-28

[9]

ナノインプリント用樹脂組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008105309A1 ,2010-06-03

[10]

ナフタレンユニット含有レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

OGATA YUTO ;

MIZUOCHI RYUTA ;

HIROHARA TOMOTADA ;

TAMURA MAMORU .

日本专利 :JP2024096269A ,2024-07-12

← 1 2 3 4 5 →