レジスト下層膜形成組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20180514247

申请日：

2017-04-11

公开(公告)号：

JPWO2017187969A1

公开(公告)日：

2019-02-28

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C07D487/04 G03F7/11

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法律状态信息

共 50 条

[1]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016063805A1 ,2017-08-03

[2]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

ENDO TAKAFUMI ;

TOKUNAGA HIKARU ;

HASHIMOTO KEISUKE ;

SAKAMOTO RIKIMARU .

日本专利 :JP2025016600A ,2025-02-04

[3]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018203540A1 ,2020-03-19

[4]

レジスト下層膜形成用組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014196509A1 ,2017-02-23

[5]

レジスト下層膜形成用組成物[ja] [P].

IGATA KOSUKE .

日本专利 :JP2024004449A ,2024-01-16

[6]

感光性レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011074433A1 ,2013-04-25

[7]

レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020111068A1 ,2021-10-28

[8]

フォトレジスト下層組成物[ja] [P].

ANTON CHAVEZ ;

KE YOUCHENG ;

YAMADA SHINTARO .

日本专利 :JP2024043506A ,2024-03-29

[9]

下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020026879A1 ,2021-09-09

[10]

カチオン重合性レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016158509A1 ,2018-01-25

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