感光性レジスト下層膜形成組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20110546063

申请日：

2010-12-06

公开(公告)号：

JPWO2011074433A1

公开(公告)日：

2013-04-25

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/095

IPC分类号：

C07C69/767 C08F212/14 C08F220/10 C08F220/56 G03F7/004 G03F7/039 G03F7/11 H01L21/027

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016063805A1 ,2017-08-03

[2]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

ENDO TAKAFUMI ;

TOKUNAGA HIKARU ;

HASHIMOTO KEISUKE ;

SAKAMOTO RIKIMARU .

日本专利 :JP2025016600A ,2025-02-04

[3]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018203540A1 ,2020-03-19

[4]

レジスト下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017187969A1 ,2019-02-28

[5]

レジスト下層膜形成用組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014196509A1 ,2017-02-23

[6]

レジスト下層膜形成用組成物[ja] [P].

IGATA KOSUKE .

日本专利 :JP2024004449A ,2024-01-16

[7]

ポジ型感光性樹脂組成物、レジスト膜、レジスト下層膜及びレジスト永久膜[ja] [P].

日本专利 :JP2025161731A ,2025-10-24

[8]

感光性レジスト下層膜形成組成物及びレジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011086757A1 ,2013-05-16

[9]

下層膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020026879A1 ,2021-09-09

[10]

感光性組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019172006A1 ,2021-02-04

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