放射性同位体を製造および回収するためのシステムとプロセス[ja]

被引：0

申请号：

JP20190547575

申请日：

2017-10-26

公开(公告)号：

JP7042281B2

公开(公告)日：

2022-03-25

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G21G1/02

IPC分类号：

G21C5/00 G21C17/108 G21C19/20 G21C23/00

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共 50 条

[1]

放射性同位体を製造および回収するためのシステムとプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2020512545A ,2020-04-23

[2]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造システム及びカプセル[ja] [P].

日本专利 :JP7426324B2 ,2024-02-01

[3]

放射性同位体を生成するための材料及びプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2024534855A ,2024-09-26

[4]

安全な放射性同位体調製および注入のためのシステム[ja] [P].

日本专利 :JP6995746B2 ,2022-02-04

[5]

安全な放射性同位体調製および注入のためのシステム[ja] [P].

日本专利 :JP7066799B2 ,2022-05-13

[6]

安全な放射性同位体調製および注入のためのシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2018529969A ,2018-10-11

[7]

放射性同位体製造方法および放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7258736B2 ,2023-04-17

[8]

放射性同位体製造装置および放射性同位体製造方法[ja] [P].

MIYADERA HARUO ;

OMIKA SHUNICHIRO ;

FUJIMAKI TAKURO ;

NAKAGOMI HIROSHI ;

WADA REIJI ;

NAKAI YUKI .

日本专利 :JP2024016456A ,2024-02-07

[9]

放射性同位体製造のための連続標的システムと方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025538429A ,2025-11-28

[10]

放射性同位体生成システム[ja] [P].

日本专利 :JP6680787B2 ,2020-04-15

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