安全な放射性同位体調製および注入のためのシステム[ja]

被引：0

申请号：

JP20180517488

申请日：

2016-06-20

公开(公告)号：

JP6995746B2

公开(公告)日：

2022-02-04

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G01T1/161

IPC分类号：

A61K49/04 A61M5/14 A61M39/22

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法律状态信息

共 50 条

[1]

安全な放射性同位体調製および注入のためのシステム[ja] [P].

日本专利 :JP7066799B2 ,2022-05-13

[2]

安全な放射性同位体調製および注入のためのシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2018529969A ,2018-10-11

[3]

放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7407097B2 ,2023-12-28

[4]

放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7426327B2 ,2024-02-01

[5]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造システム及びカプセル[ja] [P].

日本专利 :JP7426324B2 ,2024-02-01

[6]

放射性同位体製造方法および放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7258736B2 ,2023-04-17

[7]

放射性同位体製造装置および放射性同位体製造方法[ja] [P].

MIYADERA HARUO ;

OMIKA SHUNICHIRO ;

FUJIMAKI TAKURO ;

NAKAGOMI HIROSHI ;

WADA REIJI ;

NAKAI YUKI .

日本专利 :JP2024016456A ,2024-02-07

[8]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019088113A1 ,2020-11-12

[9]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7185930B2 ,2022-12-08

[10]

放射性同位体生成システム[ja] [P].

日本专利 :JP6680787B2 ,2020-04-15

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