放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20200183271

申请日：

2020-10-30

公开(公告)号：

JP7407097B2

公开(公告)日：

2023-12-28

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IPC主分类号：

G21G1/02

IPC分类号：

G21K5/08

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共 50 条

[1]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019088113A1 ,2020-11-12

[2]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7185930B2 ,2022-12-08

[3]

放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7426327B2 ,2024-02-01

[4]

放射性同位体製造装置及び放射性同位体製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025169525A ,2025-11-14

[5]

放射性同位体製造方法及び放射性同位体製造装置[ja] [P].

MIYADERA HARUO ;

OMIKA SHUNICHIRO ;

FUJIMAKI TAKURO ;

UENO SOICHI ;

KANEMURA SHOHEI .

日本专利 :JP2024156358A ,2024-11-06

[6]

放射性同位体製造方法および放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7258736B2 ,2023-04-17

[7]

放射性同位体製造装置および放射性同位体製造方法[ja] [P].

MIYADERA HARUO ;

OMIKA SHUNICHIRO ;

FUJIMAKI TAKURO ;

NAKAGOMI HIROSHI ;

WADA REIJI ;

NAKAI YUKI .

日本专利 :JP2024016456A ,2024-02-07

[8]

放射性同位体精製装置、及び放射性同位体精製方法[ja] [P].

SOME KANAKO ;

UENO SATOSHI ;

ODA TAKASHI ;

HIGUCHI HIRONORI ;

GUERRA GOMEZ FRANCISCO ;

NAGATSU KOTARO ;

MINEGISHI KATSUYUKI ;

KUGE YUJI ;

TAKAHASHI KAZUHIRO ;

NISHIJIMA KENICHI .

日本专利 :JP2024025023A ,2024-02-26

[9]

放射性同位体の製造方法及び製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7788987B2 ,2025-12-19

[10]

放射性同位体の製造方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP7219513B2 ,2023-02-08

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