放射性同位体の製造方法及び装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20210577762

申请日：

2020-02-12

公开(公告)号：

JP7219513B2

公开(公告)日：

2023-02-08

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G21G1/06

IPC分类号：

G21G1/10 G21K5/08 H05H3/06 H05H6/00

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共 50 条

[1]

放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7407097B2 ,2023-12-28

[2]

放射性同位体の製造装置及び放射性同位体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7426327B2 ,2024-02-01

[3]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019088113A1 ,2020-11-12

[4]

放射性同位体の製造方法、放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7185930B2 ,2022-12-08

[5]

放射性同位体製造装置及び放射性同位体製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025169525A ,2025-11-14

[6]

放射性同位体製造方法及び放射性同位体製造装置[ja] [P].

MIYADERA HARUO ;

OMIKA SHUNICHIRO ;

FUJIMAKI TAKURO ;

UENO SOICHI ;

KANEMURA SHOHEI .

日本专利 :JP2024156358A ,2024-11-06

[7]

放射性同位体製造方法および放射性同位体製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7258736B2 ,2023-04-17

[8]

放射性同位体製造装置および放射性同位体製造方法[ja] [P].

MIYADERA HARUO ;

OMIKA SHUNICHIRO ;

FUJIMAKI TAKURO ;

NAKAGOMI HIROSHI ;

WADA REIJI ;

NAKAI YUKI .

日本专利 :JP2024016456A ,2024-02-07

[9]

放射性同位体の製造方法及び製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP7788987B2 ,2025-12-19

[10]

放射性同位体の製造方法及び製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025001881A ,2025-01-09

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