反応装置および反応生成物製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20210180044

申请日：

2021-11-04

公开(公告)号：

JP7325491B2

公开(公告)日：

2023-08-14

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

F27B7/14

IPC分类号：

B01J19/18 F27B7/20

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法律状态信息

共 50 条

[1]

反応装置および反応生成物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7571219B2 ,2024-10-22

[2]

反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7288687B2 ,2023-06-08

[3]

反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019225675A1 ,2021-07-08

[4]

反応生成物製造装置及び反応生成物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7223658B2 ,2023-02-16

[5]

光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019216321A1 ,2021-06-17

[6]

光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7224054B2 ,2023-02-17

[7]

求核反応生成物の製造方法及び求核反応生成物製造用反応剤[ja] [P].

日本专利 :JP7764055B2 ,2025-11-05

[8]

反応器、反応装置及び反応生成物の生成方法[ja] [P].

日本专利 :JP6243810B2 ,2017-12-06

[9]

反応生成物の製造方法[ja] [P].

TOMITA MITSURU ;

KIMURA NAOTO ;

HAMADA YOSHITAKA .

日本专利 :JP2024143040A ,2024-10-11

[10]

反応装置およびそれを用いた反応生成物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7121958B1 ,2022-08-19

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