求核反応生成物の製造方法及び求核反応生成物製造用反応剤[ja]

被引：0

申请号：

JP20230503842

申请日：

2022-02-28

公开(公告)号：

JP7764055B2

公开(公告)日：

2025-11-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07C68/02

IPC分类号：

C07C69/96 C07C201/12 C07C205/43 C07D209/26 C07D215/06 C07D217/06 C07D295/16 C07D317/38

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

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共 50 条

[1]

反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7288687B2 ,2023-06-08

[2]

反応生成物製造装置、反応生成物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019225675A1 ,2021-07-08

[3]

反応生成物製造装置及び反応生成物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7223658B2 ,2023-02-16

[4]

光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019216321A1 ,2021-06-17

[5]

光反応性組成物、反応生成物及び反応生成物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7224054B2 ,2023-02-17

[6]

反応生成物の製造方法[ja] [P].

TOMITA MITSURU ;

KIMURA NAOTO ;

HAMADA YOSHITAKA .

日本专利 :JP2024143040A ,2024-10-11

[7]

反応装置および反応生成物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7571219B2 ,2024-10-22

[8]

反応装置および反応生成物製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7325491B2 ,2023-08-14

[9]

反応生成物の製法[ja] [P].

日本专利 :JP6272589B1 ,2018-01-31

[10]

反応生成物の製法[ja] [P].

日本专利 :JP2022145679A ,2022-10-04

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