レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220092329

申请日：

2022-06-07

公开(公告)号：

JP2022122988A

公开(公告)日：

2022-08-23

发明(设计)人：

MASUYAMA TATSURO ICHIKAWA KOJI

申请人：

SUMITOMO CHEMICAL CO

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/038 G03F7/039 G03F7/20

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共 50 条

[1]

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

MASUYAMA TATSURO ;

ICHIKAWA KOJI .

日本专利 :JP2022048236A ,2022-03-25

[2]

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

MASUYAMA TATSURO ;

ICHIKAWA KOJI .

日本专利 :JP2022122991A ,2022-08-23

[3]

化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

MASUNAGA KEIICHI ;

WATANABE SATOSHI ;

FUKUSHIMA MASAHIRO ;

KOTAKE MASAAKI ;

MATSUZAWA YUTA .

日本专利 :JP2024162373A ,2024-11-21

[4]

化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025134163A ,2025-09-17

[5]

レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013018569A1 ,2015-03-05

[6]

感光性樹脂組成物およびレジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023010735A ,2023-01-20

[7]

感光性樹脂組成物およびレジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019244724A1 ,2021-03-11

[8]

レジスト剥離液[ja] [P].

MAKITA SHOHEI ;

ICHIKAWA HIBIKI ;

HIGA HAJIME ;

OZAWA SATSUKI .

日本专利 :JP2024076284A ,2024-06-05

[9]

有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022526031A ,2022-05-20

[10]

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020503549A ,2020-01-30

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