化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240031894

申请日：

2024-03-04

公开(公告)号：

JP2025134163A

公开(公告)日：

2025-09-17

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C07C43/225 C07C309/42 C07C309/43 C07C309/71 C07C309/73 C07C381/12 C07D307/00 C07D327/08 C07D333/54 C07D333/76 C08F20/30 G03F7/039 G03F7/20

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共 50 条

[1]

化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

MASUNAGA KEIICHI ;

WATANABE SATOSHI ;

FUKUSHIMA MASAHIRO ;

KOTAKE MASAAKI ;

MATSUZAWA YUTA .

日本专利 :JP2024162373A ,2024-11-21

[2]

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

MASUYAMA TATSURO ;

ICHIKAWA KOJI .

日本专利 :JP2022122988A ,2022-08-23

[3]

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

MASUYAMA TATSURO ;

ICHIKAWA KOJI .

日本专利 :JP2022048236A ,2022-03-25

[4]

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

MASUYAMA TATSURO ;

ICHIKAWA KOJI .

日本专利 :JP2022122991A ,2022-08-23

[5]

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020503549A ,2020-01-30

[6]

レジスト現像剤、レジストパターンの形成方法及びモールドの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013018569A1 ,2015-03-05

[7]

感光性樹脂組成物およびレジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023010735A ,2023-01-20

[8]

感光性樹脂組成物およびレジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019244724A1 ,2021-03-11

[9]

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008153109A1 ,2010-08-26

[10]

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008153110A1 ,2010-08-26

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