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高分子膜の製造方法および高分子膜製造用電解重合装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20110196219
申请日
:
2011-09-08
公开(公告)号
:
JP5954558B2
公开(公告)日
:
2016-07-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C25B3/00
IPC分类号
:
C08G61/00
C25B9/00
C25D9/02
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5814074B2
,2015-11-17
[2]
高分子および高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018135139A1
,2019-11-07
[3]
合成高分子膜および合成高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6751731B2
,2020-09-09
[4]
高分子電解質膜の製造方法及び高分子電解質膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5621180B2
,2014-11-05
[5]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020500974A
,2020-01-16
[6]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7113194B2
,2022-08-05
[7]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6947359B2
,2021-10-13
[8]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6689076B2
,2020-04-28
[9]
高分子膜およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024531793A
,2024-08-29
[10]
高分子電解質膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6826305B2
,2021-02-03
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