高分子膜の製造方法および高分子膜製造用電解重合装置[ja]

被引:0
申请号
JP20110196219
申请日
2011-09-08
公开(公告)号
JP5954558B2
公开(公告)日
2016-07-20
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C25B3/00
IPC分类号
C08G61/00 C25B9/00 C25D9/02
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja] [P]. 
日本专利 :JP5814074B2 ,2015-11-17
[2]
高分子および高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018135139A1 ,2019-11-07
[3]
合成高分子膜および合成高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6751731B2 ,2020-09-09
[4]
[5]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020500974A ,2020-01-16
[6]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7113194B2 ,2022-08-05
[7]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6947359B2 ,2021-10-13
[8]
高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6689076B2 ,2020-04-28
[9]
高分子膜およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024531793A ,2024-08-29
[10]
高分子電解質膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6826305B2 ,2021-02-03