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合成高分子膜および合成高分子膜の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180028456
申请日
:
2018-02-21
公开(公告)号
:
JP6751731B2
公开(公告)日
:
2020-09-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C08J5/18
IPC分类号
:
B29C39/18
B29C39/26
C08J7/04
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5814074B2
,2015-11-17
[2]
高分子および高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018135139A1
,2019-11-07
[3]
合成高分子膜及合成高分子膜的制造方法
[P].
山田美穗
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
山田美穗
;
芝井康博
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
芝井康博
;
箕浦洁
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
箕浦洁
;
田口登喜生
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
田口登喜生
.
中国专利
:CN110183694B
,2019-08-30
[4]
高分子鎖の動態解析方法、高分子の製造方法、高分子、合成高分子の製造方法及び合成高分子[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014104172A1
,2017-01-12
[5]
高分子鎖の動態解析方法、高分子の製造方法、高分子、合成高分子の製造方法及び合成高分子[ja]
[P].
日本专利
:JP6061277B2
,2017-01-18
[6]
合成高分子膜、合成高分子膜を有する積層体、合成高分子膜の表面を用いた殺菌方法および合成高分子膜の表面の再活性化方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6453517B1
,2019-01-16
[7]
高分子膜の製造方法および高分子膜製造用電解重合装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5954558B2
,2016-07-20
[8]
合成高分子、合成高分子の製造方法、および情報記録方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7264276B2
,2023-04-25
[9]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020500974A
,2020-01-16
[10]
高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7113194B2
,2022-08-05
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