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高分子鎖の動態解析方法、高分子の製造方法、高分子、合成高分子の製造方法及び合成高分子[ja]
被引:0
申请号
:
JP20140554534
申请日
:
2013-12-26
公开(公告)号
:
JP6061277B2
公开(公告)日
:
2017-01-18
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01Q30/04
IPC分类号
:
G01Q30/12
G01Q60/24
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子鎖の動態解析方法、高分子の製造方法、高分子、合成高分子の製造方法及び合成高分子[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014104172A1
,2017-01-12
[2]
高分子および高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018135139A1
,2019-11-07
[3]
合成高分子膜および合成高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6751731B2
,2020-09-09
[4]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5814074B2
,2015-11-17
[5]
高分子および当該高分子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6156818B2
,2017-07-05
[6]
高分子ゲル製造用溶液、高分子ゲル、高分子ゲルの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7251123B2
,2023-04-04
[7]
星形高分子、星形高分子組成物および星形高分子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6294885B2
,2018-03-14
[8]
高分子成形品の製造方法及び高分子成形品[ja]
[P].
日本专利
:JP5965704B2
,2016-08-10
[9]
合成高分子、合成高分子の製造方法、および情報記録方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7264276B2
,2023-04-25
[10]
高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017204020A1
,2019-03-22
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