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高分子薄膜の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180519197
申请日
:
2017-05-15
公开(公告)号
:
JPWO2017204020A1
公开(公告)日
:
2019-03-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C08J5/18
IPC分类号
:
C08F2/26
C08F12/08
C08F20/12
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6991485B2
,2022-01-12
[2]
高分子薄膜分散体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6916483B2
,2021-08-11
[3]
高分子超薄膜の製造方法及び高分子超薄膜の製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5663395B2
,2015-02-04
[4]
高分子薄膜、高分子積層膜の製造方法、その製造方法で製造された高分子薄膜、および高分子積層膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012070658A1
,2014-05-19
[5]
高分子薄膜積層体の製造方法および高分子薄膜分散体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6840361B2
,2021-03-10
[6]
高分子複合薄膜、高分子複合薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7570634B2
,2024-10-22
[7]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7156036B2
,2022-10-19
[8]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7585836B2
,2024-11-19
[9]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019116951A1
,2020-10-22
[10]
高分子鎖の動態解析方法、高分子の製造方法、高分子、合成高分子の製造方法及び合成高分子[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014104172A1
,2017-01-12
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