高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]

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申请号
JP20210017069
申请日
2021-02-05
公开(公告)号
JP7585836B2
公开(公告)日
2024-11-19
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B29C59/02
IPC分类号
B29C41/24 B29C41/36
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019116951A1 ,2020-10-22
[2]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7156036B2 ,2022-10-19
[4]
高分子薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017204020A1 ,2019-03-22
[5]
高分子薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6991485B2 ,2022-01-12
[8]
高分子および高分子膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018135139A1 ,2019-11-07
[9]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja] [P]. 
日本专利 :JP5814074B2 ,2015-11-17
[10]
高分子および当該高分子の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6156818B2 ,2017-07-05