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高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210017069
申请日
:
2021-02-05
公开(公告)号
:
JP7585836B2
公开(公告)日
:
2024-11-19
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
B29C59/02
IPC分类号
:
B29C41/24
B29C41/36
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019116951A1
,2020-10-22
[2]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7156036B2
,2022-10-19
[3]
高分子薄膜積層体の製造方法および高分子薄膜分散体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6840361B2
,2021-03-10
[4]
高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017204020A1
,2019-03-22
[5]
高分子薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6991485B2
,2022-01-12
[6]
高分子薄膜、高分子積層膜の製造方法、その製造方法で製造された高分子薄膜、および高分子積層膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012070658A1
,2014-05-19
[7]
高分子超薄膜の製造方法及び高分子超薄膜の製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5663395B2
,2015-02-04
[8]
高分子および高分子膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018135139A1
,2019-11-07
[9]
高分子膜の製造方法および高分子膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5814074B2
,2015-11-17
[10]
高分子および当該高分子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6156818B2
,2017-07-05
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