高分子薄膜積層体の製造方法および高分子薄膜分散体の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20170055963
申请日
2017-03-22
公开(公告)号
JP6840361B2
公开(公告)日
2021-03-10
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
B29C65/48
IPC分类号
C08J3/02
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
引用
下载
收藏
共 50 条
[2]
高分子薄膜分散体の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6916483B2 ,2021-08-11
[3]
高分子薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017204020A1 ,2019-03-22
[4]
高分子薄膜の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6991485B2 ,2022-01-12
[7]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7156036B2 ,2022-10-19
[8]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7585836B2 ,2024-11-19
[9]
高分子薄膜の製造装置および製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019116951A1 ,2020-10-22