ナノインプリントリソグラフィー用の基板前処理組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20190547124

申请日：

2018-02-12

公开(公告)号：

JP2020509592A

公开(公告)日：

2020-03-26

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IPC主分类号：

H01L21/027

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共 50 条

[1]

インプリントリソグラフィーのためのインプリント材料[ja] [P].

日本专利 :JP2016524330A ,2016-08-12

[2]

ナノインプリントリソグラフィーにおける充填時間を短縮するためのインプリントレジスト及び基板前処理[ja] [P].

日本专利 :JP2019516249A ,2019-06-13

[3]

リソグラフィー用基板表面処理剤[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005091070A1 ,2008-02-07

[4]

ナノインプリント用硬化性組成物、半導体素子及びナノインプリント方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011125800A1 ,2013-07-11

[5]

チタン及びシリコン含有リソグラフィー用薄膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013012068A1 ,2015-02-23

[6]

コーティング用ポリイソシアネート組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2022508126A ,2022-01-19

[7]

リソグラフィー用反射防止膜形成組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003034152A1 ,2005-02-03

[8]

インプリント用下層膜形成組成物、インプリント用硬化性組成物、キット[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019172156A1 ,2021-03-04

[9]

ポリイソシアネート組成物、水系コーティング組成物、コーティング基材及びポリイソシアネート組成物の製造方法[ja] [P].

HONG CHANGFENG ;

FUKUCHI TAKASHI .

日本专利 :JP2023183352A ,2023-12-27

[10]

ポリイソシアネート組成物、ブロックポリイソシアネート組成物、コーティング組成物及びコーティング基材[ja] [P].

日本专利 :JP2025128023A ,2025-09-02

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