共 50 条
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高周波プラズマ処理装置および高周波プラズマ処理方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20140036767
申请日：
2014-02-27
公开(公告)号：
JP6317138B2
公开(公告)日：
2018-04-25
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/3065
IPC分类号：
H05H1/46
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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