共 50 条
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プラズマ処理装置、および高周波発生器[ja]
被引：0
申请号：
JP20140507858
申请日：
2013-03-25
公开(公告)号：
JPWO2013146655A1
公开(公告)日：
2015-12-14
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H05H1/46
IPC分类号：
C23C16/511
H01L21/205
H01L21/3065
H01L21/31
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
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