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粒子線照射システム、粒子線制御情報生成装置、および粒子線照射装置の制御方法、プログラム[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160236200
申请日
:
2016-12-05
公开(公告)号
:
JP6958887B2
公开(公告)日
:
2021-11-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
A61N5/10
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
粒子線照射装置および粒子線照射装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6358948B2
,2018-07-18
[2]
粒子線照射システムおよび粒子線照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025127296A
,2025-09-01
[3]
粒子線照射装置及び粒子線照射プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP7237716B2
,2023-03-13
[4]
粒子線照射装置及び粒子線照射プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP5693876B2
,2015-04-01
[5]
粒子線照射システム及び粒子線照射方法[ja]
[P].
EGUCHI MINA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
EGUCHI MINA
;
NOMURA TAKUYA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
HITACHI LTD
HITACHI LTD
NOMURA TAKUYA
.
日本专利
:JP2024134729A
,2024-10-04
[6]
粒子線照射装置および粒子線治療システム[ja]
[P].
日本专利
:JP7045920B2
,2022-04-01
[7]
粒子線照射装置およびその制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6537067B2
,2019-07-03
[8]
荷電粒子線照射装置、荷電粒子線照射方法及び荷電粒子線照射プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP5670126B2
,2015-02-18
[9]
粒子線照射システム[ja]
[P].
日本专利
:JP2025009315A
,2025-01-20
[10]
粒子線ビーム照射装置および粒子線ビーム照射方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009035080A1
,2010-12-24
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