粒子線照射システム、粒子線制御情報生成装置、および粒子線照射装置の制御方法、プログラム[ja]

被引:0
申请号
JP20160236200
申请日
2016-12-05
公开(公告)号
JP6958887B2
公开(公告)日
2021-11-02
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
A61N5/10
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
[2]
粒子線照射システムおよび粒子線照射方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025127296A ,2025-09-01
[3]
粒子線照射装置及び粒子線照射プログラム[ja] [P]. 
日本专利 :JP7237716B2 ,2023-03-13
[4]
粒子線照射装置及び粒子線照射プログラム[ja] [P]. 
日本专利 :JP5693876B2 ,2015-04-01
[5]
粒子線照射システム及び粒子線照射方法[ja] [P]. 
EGUCHI MINA ;
NOMURA TAKUYA .
日本专利 :JP2024134729A ,2024-10-04
[6]
粒子線照射装置および粒子線治療システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP7045920B2 ,2022-04-01
[7]
粒子線照射装置およびその制御方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6537067B2 ,2019-07-03
[9]
粒子線照射システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025009315A ,2025-01-20
[10]