ペリクル接着剤残留物除去システムおよび方法[ja]

被引:0
申请号
JP20210503098
申请日
2019-06-25
公开(公告)号
JP2021532404A
公开(公告)日
2021-11-25
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F1/62
IPC分类号
G03F1/24 H01L21/304
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
[2]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021529356A ,2021-10-28
[3]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P]. 
日本专利 :JP7155386B2 ,2022-10-18
[4]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P]. 
WU BANQIU ;
ELI DAGAN .
日本专利 :JP2022189840A ,2022-12-22
[5]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P]. 
日本专利 :JP7524266B2 ,2024-07-29
[7]
残留物回収装置および残留物回収方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7500532B2 ,2024-06-17
[10]
材料残留物のリサイクル[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025535122A ,2025-10-22