フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja]

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申请号
JP20220160813
申请日
2022-10-05
公开(公告)号
JP2022189840A
公开(公告)日
2022-12-22
发明(设计)人
WU BANQIU ELI DAGAN
申请人
APPLIED MATERIALS INC
申请人地址
IPC主分类号
G03F1/82
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021529356A ,2021-10-28
[2]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P]. 
日本专利 :JP7155386B2 ,2022-10-18
[3]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P]. 
日本专利 :JP7524266B2 ,2024-07-29
[4]
[5]
ペリクル接着剤残留物除去システムおよび方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021532404A ,2021-11-25
[6]
材料残留物のリサイクル[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025535122A ,2025-10-22
[7]
金属含有フォトレジストのリワーク[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024530605A ,2024-08-23
[9]
[10]