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フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja]
被引:0
申请号
:
JP20220160813
申请日
:
2022-10-05
公开(公告)号
:
JP2022189840A
公开(公告)日
:
2022-12-22
发明(设计)人
:
WU BANQIU
ELI DAGAN
申请人
:
APPLIED MATERIALS INC
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F1/82
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja]
[P].
日本专利
:JP2021529356A
,2021-10-28
[2]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja]
[P].
日本专利
:JP7155386B2
,2022-10-18
[3]
フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja]
[P].
日本专利
:JP7524266B2
,2024-07-29
[4]
ペリクル接着剤残留物除去システムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7348264B2
,2023-09-20
[5]
ペリクル接着剤残留物除去システムおよび方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021532404A
,2021-11-25
[6]
材料残留物のリサイクル[ja]
[P].
日本专利
:JP2025535122A
,2025-10-22
[7]
金属含有フォトレジストのリワーク[ja]
[P].
日本专利
:JP2024530605A
,2024-08-23
[8]
仮接着剤残留物の洗浄剤組成物の製造方法、仮接着剤残留物の洗浄剤組成物入り容器の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7492197B2
,2024-05-29
[9]
窒化チタンハードマスク及びエッチ残留物除去[ja]
[P].
日本专利
:JP5869720B2
,2016-02-24
[10]
窒化チタンハードマスク及びエッチ残留物除去[ja]
[P].
日本专利
:JP6309999B2
,2018-04-11
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