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仮接着剤残留物の洗浄剤組成物の製造方法、仮接着剤残留物の洗浄剤組成物入り容器の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230044593
申请日
:
2023-03-20
公开(公告)号
:
JP7492197B2
公开(公告)日
:
2024-05-29
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
C11D7/32
C11D7/50
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
仮接着剤残留物洗浄剤組成物及び加工された半導体基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7759026B2
,2025-10-23
[2]
洗浄剤組成物及び洗浄方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023052705A
,2023-04-11
[3]
洗浄剤組成物の製造方法及び加工された半導体基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023052749A
,2023-04-12
[4]
表面の残留物を除去するための洗浄配合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6707451B2
,2020-06-10
[5]
表面の残留物を除去するための洗浄配合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2016536392A
,2016-11-24
[6]
表面の残留物を除去するための洗浄配合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2017502129A
,2017-01-19
[7]
表面の残留物を除去するための洗浄配合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6599322B2
,2019-10-30
[8]
エッチング後残留物を除去するための洗浄組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020513440A
,2020-05-14
[9]
エッチング後残留物を除去するための洗浄組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP7758494B2
,2025-10-22
[10]
洗浄組成物の作製及び汚れの検出の方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024515660A
,2024-04-10
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