金属含有フォトレジストのリワーク[ja]

被引：0

申请号：

JP20240504920

申请日：

2022-07-20

公开(公告)号：

JP2024530605A

公开(公告)日：

2024-08-23

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/027

IPC分类号：

G03F7/42 H01L21/302 H01L21/3065

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

有機蒸気によるフォトレジストの現像[ja] [P].

DICTUS DRIES ;

WU CHENGHAO ;

ERIC CALVIN HANSEN ;

TIMOTHY WILLIAM WEIDMAN .

日本专利 :JP2025107246A ,2025-07-17

[2]

有機蒸気によるフォトレジストの現像[ja] [P].

日本专利 :JP2023551893A ,2023-12-13

[3]

フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P].

日本专利 :JP2021529356A ,2021-10-28

[4]

フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P].

日本专利 :JP7155386B2 ,2022-10-18

[5]

フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P].

WU BANQIU ;

ELI DAGAN .

日本专利 :JP2022189840A ,2022-12-22

[6]

フォトマスクペリクル接着剤残留物の除去[ja] [P].

日本专利 :JP7524266B2 ,2024-07-29

[7]

レジスト層の薄膜化装置[ja] [P].

日本专利 :JP3208034U ,2016-12-15

[8]

フォトニックデバイスのパターニング方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024537838A ,2024-10-16

[9]

プリーツ状でテーパー状の螺旋巻きのクロスクロスフィルタエレメント[ja] [P].

日本专利 :JP2020501894A ,2020-01-23

[10]

クリーニングブレード、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025002268A ,2025-01-09

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