レジスト層の薄膜化装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20160004850U

申请日：

2016-10-06

公开(公告)号：

JP3208034U

公开(公告)日：

2016-12-15

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H05K3/06

IPC分类号：

G03F7/38 H01L21/027 H05K3/18 H05K3/28

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法律状态信息

共 25 条

[1]

金属含有フォトレジストのリワーク[ja] [P].

日本专利 :JP2024530605A ,2024-08-23

[2]

メタタングステン酸塩化合物の製造方法、レジスト用メタタングステン酸塩化合物、及び、レジスト材料[ja] [P].

NODA KUNIHIRO ;

INARI TAKATOSHI ;

NISHIZAWA AKITO ;

NAGATA MASAYA .

日本专利 :JP2025022617A ,2025-02-14

[3]

ポリマーとステンレス鋼の接合体のためのステンレス鋼の表面処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP7272706B1 ,2023-05-12

[4]

反射防止膜層のウェット剥離方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016513884A ,2016-05-16

[5]

アスベスト含有材料の生化学的変性のための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017514689A ,2017-06-08

[6]

層状複水酸化物の製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025141323A ,2025-09-29

[7]

スカンジウム化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025154772A ,2025-10-10

[8]

スカンジウム化合物の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025154769A ,2025-10-10

[9]

ガラス基板のエッジを強化する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2017503745A ,2017-02-02

[10]

プロアントシアニジンオリゴマーの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2006090830A1 ,2008-07-24