有機蒸気によるフォトレジストの現像[ja]

被引:0
申请号
JP20250073845
申请日
2025-04-28
公开(公告)号
JP2025107246A
公开(公告)日
2025-07-17
发明(设计)人
DICTUS DRIES WU CHENGHAO ERIC CALVIN HANSEN TIMOTHY WILLIAM WEIDMAN
申请人
LAM RES CORP
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/027
IPC分类号
G03F7/20 G03F7/36
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
有機蒸気によるフォトレジストの現像[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023551893A ,2023-12-13
[2]
ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022538040A ,2022-08-31
[3]
ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja] [P]. 
SAMANTHA SIAMHWA TAN ;
YU JENGYI ;
LI DA ;
FAN YIWEN ;
PAN YANG ;
MARKS JEFFEREY ;
RICHARD A GOTTSCHO ;
DANIEL PETER ;
TIMOTHY WILLIAM WEIDMAN ;
BORIS VOLOSSKIY ;
YANG WENBING .
日本专利 :JP2024133561A ,2024-10-02
[4]
ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025166041A ,2025-11-05
[5]
ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像[ja] [P]. 
SAMANTHA SIAMHWA TAN ;
YU JENGYI ;
LI DA ;
FAN YIWEN ;
PAN YANG ;
MARKS JEFFEREY ;
RICHARD A GOTTSCHO ;
DANIEL PETER ;
TIMOTHY WILLIAM WEIDMAN ;
BORIS VOLOSSKIY ;
YANG WENBING .
日本专利 :JP2025087800A ,2025-06-10
[6]
[7]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
SCOTT LEWIS ;
RICHARD WINPENNY ;
STEPHEN YEATES ;
FERNANDEZ ANTONIO .
日本专利 :JP2022184876A ,2022-12-13
[8]
金属含有フォトレジストのリワーク[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024530605A ,2024-08-23