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エッチストップ阻止のための金属酸化物ベースのフォトレジストの周期的現像[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240522188
申请日
:
2023-06-29
公开(公告)号
:
JP2025503365A
公开(公告)日
:
2025-02-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/027
IPC分类号
:
G03F7/20
G03F7/32
G03F7/36
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
エッチストップ阻止のための金属酸化物ベースのフォトレジストの周期的現像[ja]
[P].
日本专利
:JP2025157284A
,2025-10-15
[2]
エッチストップ阻止のための金属酸化物ベースのフォトレジストの周期的現像[ja]
[P].
日本专利
:JP7706654B2
,2025-07-11
[3]
金属酸化物レジストの反応現像のための酸[ja]
[P].
日本专利
:JP2025526562A
,2025-08-15
[4]
ハイブリッド有機スズ酸化物フォトレジストの現像[ja]
[P].
日本专利
:JP2024546812A
,2024-12-26
[5]
有機蒸気によるフォトレジストの現像[ja]
[P].
DICTUS DRIES
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LAM RES CORP
LAM RES CORP
DICTUS DRIES
;
WU CHENGHAO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LAM RES CORP
LAM RES CORP
WU CHENGHAO
;
ERIC CALVIN HANSEN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LAM RES CORP
LAM RES CORP
ERIC CALVIN HANSEN
;
TIMOTHY WILLIAM WEIDMAN
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LAM RES CORP
LAM RES CORP
TIMOTHY WILLIAM WEIDMAN
.
日本专利
:JP2025107246A
,2025-07-17
[6]
有機蒸気によるフォトレジストの現像[ja]
[P].
日本专利
:JP2023551893A
,2023-12-13
[7]
ポストドライエッチングフォトレジストおよび金属含有残渣の除去配合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2024538550A
,2024-10-23
[8]
フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021518922A
,2021-08-05
[9]
フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023515005A
,2023-04-12
[10]
熱酸化物スプレーコートとの熱膨張整合を改善するための混合金属ベースプレート[ja]
[P].
日本专利
:JP2023512448A
,2023-03-27
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