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フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20220549084
申请日：
2021-09-17
公开(公告)号：
JP2023515005A
公开(公告)日：
2023-04-12
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/42
IPC分类号：
C11D7/32 C11D7/50
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021518922A ,2021-08-05
[2]
ＬＣＤ製造用フォトレジスト剥離液組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018530774A ,2018-10-18
[3]
ディスプレイ製造用フォトレジスト剥離液組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022554254A ,2022-12-28
[4]
半導体フォトレジスト用組成物およびこれを用いたパターン形成方法[ja] [P]. 
YOON JIHYUN ;
JANG SEUNGWOO ;
SHIN SEUNG-WOOK ;
KIM MINHYE ;
OH KYOUNGAH .
日本专利 :JP2025126126A ,2025-08-28
[5]
レジスト剥離液及びレジストの剥離方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6249260B1 ,2017-12-20
[6]
フォトレジストパターンの作製方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2011108259A1 ,2013-06-20
[7]
半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022530147A ,2022-06-27
[8]
レジスト剥離液[ja] [P]. 
日本专利 :JP5885041B1 ,2016-03-15
[9]
レジスト剥離液[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018122992A1 ,2018-12-27
[10]
レジスト剥離液[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2018100595A1 ,2018-11-29
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