半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja]

被引:0
申请号
JP20210563592
申请日
2020-04-16
公开(公告)号
JP2022530147A
公开(公告)日
2022-06-27
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/304
IPC分类号
G03F7/42
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
フォトレジスト剥離組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021505958A ,2021-02-18
[4]
防食性フォトレジスト剥離剤組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010061701A1 ,2012-04-26
[6]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2015501954A ,2015-01-19
[7]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020516939A ,2020-06-11
[8]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009122753A1 ,2011-07-28