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半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210563592
申请日
:
2020-04-16
公开(公告)号
:
JP2022530147A
公开(公告)日
:
2022-06-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
G03F7/42
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2019518986A
,2019-07-04
[2]
フォトレジスト剥離組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021505958A
,2021-02-18
[3]
フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010119753A1
,2012-10-22
[4]
防食性フォトレジスト剥離剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010061701A1
,2012-04-26
[5]
フォトレジスト除去用ストリッパ組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016513273A
,2016-05-12
[6]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2015501954A
,2015-01-19
[7]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020516939A
,2020-06-11
[8]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009122753A1
,2011-07-28
[9]
フォトレジスト剥離剤組成物、積層金属配線基板のフォトレジスト剥離方法及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010073887A1
,2012-06-14
[10]
フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを利用したフォトレジストの剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017530377A
,2017-10-12
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