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フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20100550981
申请日
:
2010-03-24
公开(公告)号
:
JPWO2010119753A1
公开(公告)日
:
2012-10-22
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/027
IPC分类号
:
G03F7/42
H01L21/304
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フォトレジスト剥離組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021505958A
,2021-02-18
[2]
防食性フォトレジスト剥離剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010061701A1
,2012-04-26
[3]
フォトレジスト剥離剤組成物、積層金属配線基板のフォトレジスト剥離方法及び製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010073887A1
,2012-06-14
[4]
レジスト剥離剤[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007148574A1
,2009-11-19
[5]
レジスト剥離液及びレジストの剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6249260B1
,2017-12-20
[6]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2015501954A
,2015-01-19
[7]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020516939A
,2020-06-11
[8]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009122753A1
,2011-07-28
[9]
レジスト剥離液[ja]
[P].
日本专利
:JP6688978B1
,2020-04-28
[10]
レジスト剥離液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020194418A1
,2021-04-08
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