フォトレジスト組成物[ja]

被引：0

申请号：

JP20140547094

申请日：

2012-12-11

公开(公告)号：

JP2015501954A

公开(公告)日：

2015-01-19

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C08F212/08 G03F7/023 G03F7/038 G03F7/09

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法律状态信息

共 50 条

[1]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2020516939A ,2020-06-11

[2]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009122753A1 ,2011-07-28

[3]

高屈折率フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2024541191A ,2024-11-08

[4]

フォトレジスト用樹脂組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012026465A1 ,2013-10-28

[5]

フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物[ja] [P].

日本专利 :JP2025005535A ,2025-01-17

[6]

フォトレジスト剥離組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2021505958A ,2021-02-18

[7]

フォトレジスト下層組成物[ja] [P].

ANTON CHAVEZ ;

KE YOUCHENG ;

YAMADA SHINTARO .

日本专利 :JP2024043506A ,2024-03-29

[8]

環状化合物、フォトレジスト基材及びフォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008153154A1 ,2010-08-26

[9]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP6138312B1 ,2017-05-31

[10]

フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010119753A1 ,2012-10-22

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