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半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180560013
申请日
:
2017-05-17
公开(公告)号
:
JP2019518986A
公开(公告)日
:
2019-07-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/42
IPC分类号
:
C11D1/62
C11D3/20
C11D3/28
C11D3/32
C11D3/34
C11D3/43
C11D7/26
C11D7/32
C11D7/34
C11D7/50
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
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法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2022530147A
,2022-06-27
[2]
半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2018503127A
,2018-02-01
[3]
フォトレジスト剥離組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021505958A
,2021-02-18
[4]
フォトレジスト剥離剤組成物及びフォトレジスト剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010119753A1
,2012-10-22
[5]
防食性フォトレジスト剥離剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010061701A1
,2012-04-26
[6]
フォトレジスト除去用ストリッパ組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016513273A
,2016-05-12
[7]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2015501954A
,2015-01-19
[8]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2020516939A
,2020-06-11
[9]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009122753A1
,2011-07-28
[10]
フォトレジスト剥離液[ja]
[P].
日本专利
:JP2025164820A
,2025-10-30
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