半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja]

被引:0
申请号
JP20180560013
申请日
2017-05-17
公开(公告)号
JP2019518986A
公开(公告)日
2019-07-04
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F7/42
IPC分类号
C11D1/62 C11D3/20 C11D3/28 C11D3/32 C11D3/34 C11D3/43 C11D7/26 C11D7/32 C11D7/34 C11D7/50 H01L21/027
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[3]
フォトレジスト剥離組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021505958A ,2021-02-18
[5]
防食性フォトレジスト剥離剤組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010061701A1 ,2012-04-26
[7]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2015501954A ,2015-01-19
[8]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020516939A ,2020-06-11
[9]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009122753A1 ,2011-07-28
[10]
フォトレジスト剥離液[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025164820A ,2025-10-30