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フォトレジスト剥離液[ja]
被引:0
申请号
:
JP20250136291
申请日
:
2025-08-19
公开(公告)号
:
JP2025164820A
公开(公告)日
:
2025-10-30
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/42
IPC分类号
:
C11D7/32
C11D7/34
C11D7/50
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フォトレジスト剥離液[ja]
[P].
KOBAYASHI TADASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NAGASE CHEMTEX CORP
NAGASE CHEMTEX CORP
KOBAYASHI TADASHI
;
NISHIJIMA YOSHITAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NAGASE CHEMTEX CORP
NAGASE CHEMTEX CORP
NISHIJIMA YOSHITAKA
.
日本专利
:JP2024014773A
,2024-02-01
[2]
フォトレジスト剥離液[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017065153A1
,2018-07-26
[3]
レジスト剥離液[ja]
[P].
MAKITA SHOHEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TAIYO HOLDINGS CO LTD
TAIYO HOLDINGS CO LTD
MAKITA SHOHEI
;
ICHIKAWA HIBIKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TAIYO HOLDINGS CO LTD
TAIYO HOLDINGS CO LTD
ICHIKAWA HIBIKI
;
HIGA HAJIME
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TAIYO HOLDINGS CO LTD
TAIYO HOLDINGS CO LTD
HIGA HAJIME
;
OZAWA SATSUKI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TAIYO HOLDINGS CO LTD
TAIYO HOLDINGS CO LTD
OZAWA SATSUKI
.
日本专利
:JP2024076284A
,2024-06-05
[4]
高機能溶液を用いたフォトレジスト剥離[ja]
[P].
日本专利
:JP2022078039A
,2022-05-24
[5]
低含水量のフォトレジスト剥離液用濃縮液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010073430A1
,2012-05-31
[6]
化学増幅型フォトレジスト[ja]
[P].
日本专利
:JP2023502762A
,2023-01-25
[7]
フォトレジスト除去剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2024500368A
,2024-01-09
[8]
フォトレジストリムーバ組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021511531A
,2021-05-06
[9]
フォトレジストリムーバ組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2022191267A
,2022-12-27
[10]
フォトレジストリムーバ組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021511419A
,2021-05-06
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