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フォトレジスト除去剤組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230535670
申请日
:
2021-12-13
公开(公告)号
:
JP2024500368A
公开(公告)日
:
2024-01-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/42
IPC分类号
:
C11D1/00
C11D3/20
C11D3/34
H01L21/027
H01L21/304
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フォトレジストリムーバ組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021511531A
,2021-05-06
[2]
フォトレジストリムーバ組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021511419A
,2021-05-06
[3]
フォトレジストリムーバ組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2022191267A
,2022-12-27
[4]
フォトレジストリムーバ組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2022540087A
,2022-09-14
[5]
フォトレジスト剥離液[ja]
[P].
日本专利
:JP2025164820A
,2025-10-30
[6]
化学増幅型フォトレジスト[ja]
[P].
日本专利
:JP2023502762A
,2023-01-25
[7]
レジスト剥離液組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018020837A1
,2019-05-09
[8]
アスファルト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2015500906A
,2015-01-08
[9]
半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2018503127A
,2018-02-01
[10]
アスファルト添加剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025176636A
,2025-12-04
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