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レジスト剥離液組成物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180529402
申请日
:
2017-06-05
公开(公告)号
:
JPWO2018020837A1
公开(公告)日
:
2019-05-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/42
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フォトレジスト除去剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2024500368A
,2024-01-09
[2]
フォトレジストリムーバ組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021511531A
,2021-05-06
[3]
フォトレジストリムーバ組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2021511419A
,2021-05-06
[4]
レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025178109A
,2025-12-05
[5]
半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2018503127A
,2018-02-01
[6]
界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6210309B2
,2017-10-11
[7]
界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6210295B2
,2017-10-11
[8]
界面活性剤組成物、コーティング組成物及びレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP6198058B2
,2017-09-20
[9]
レジスト基板前処理組成物及びレジスト基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018116780A1
,2019-06-24
[10]
高機能溶液を用いたフォトレジスト剥離[ja]
[P].
日本专利
:JP2022078039A
,2022-05-24
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