高機能溶液を用いたフォトレジスト剥離[ja]

被引：0

申请号：

JP20220016216

申请日：

2022-02-04

公开(公告)号：

JP2022078039A

公开(公告)日：

2022-05-24

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/027

IPC分类号：

G03F7/42 H01L21/304

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法律状态信息

共 50 条

[1]

フォトレジスト剥離液[ja] [P].

日本专利 :JP2025164820A ,2025-10-30

[2]

防食性フォトレジスト剥離剤組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010061701A1 ,2012-04-26

[3]

レジスト剥離液[ja] [P].

MAKITA SHOHEI ;

ICHIKAWA HIBIKI ;

HIGA HAJIME ;

OZAWA SATSUKI .

日本专利 :JP2024076284A ,2024-06-05

[4]

フォトレジスト除去剤[ja] [P].

日本专利 :JP2022549372A ,2022-11-24

[5]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009122753A1 ,2011-07-28

[6]

フォトレジスト除去剤組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2024500368A ,2024-01-09

[7]

化学増幅型フォトレジスト[ja] [P].

日本专利 :JP2023502762A ,2023-01-25

[8]

半導体基板からフォトレジストを除去するための剥離組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2018503127A ,2018-02-01

[9]

レジスト剥離液組成物[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018020837A1 ,2019-05-09

[10]

フォトレジストリムーバ組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2021511531A ,2021-05-06

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