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フォトレジスト剥離液[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170545206
申请日
:
2016-10-12
公开(公告)号
:
JPWO2017065153A1
公开(公告)日
:
2018-07-26
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/42
IPC分类号
:
H01L21/027
H01L21/304
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フォトレジスト剥離液[ja]
[P].
日本专利
:JP2025164820A
,2025-10-30
[2]
フォトレジスト剥離液[ja]
[P].
KOBAYASHI TADASHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NAGASE CHEMTEX CORP
NAGASE CHEMTEX CORP
KOBAYASHI TADASHI
;
NISHIJIMA YOSHITAKA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
NAGASE CHEMTEX CORP
NAGASE CHEMTEX CORP
NISHIJIMA YOSHITAKA
.
日本专利
:JP2024014773A
,2024-02-01
[3]
レジスト剥離液及びレジストの剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6249260B1
,2017-12-20
[4]
フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2015501954A
,2015-01-19
[5]
低含水量のフォトレジスト剥離液用濃縮液の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010073430A1
,2012-05-31
[6]
フォトレジスト除去用ストリッパー組成物およびこれを用いたフォトレジストの剥離方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017527838A
,2017-09-21
[7]
フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物[ja]
[P].
日本专利
:JP2025005535A
,2025-01-17
[8]
フォトレジスト基材、及びそれを含んでなるフォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008136372A1
,2010-07-29
[9]
高屈折率フォトレジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2024541191A
,2024-11-08
[10]
フォトレジスト用樹脂組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012026465A1
,2013-10-28
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