フォトレジスト剥離液[ja]

被引:0
申请号
JP20170545206
申请日
2016-10-12
公开(公告)号
JPWO2017065153A1
公开(公告)日
2018-07-26
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F7/42
IPC分类号
H01L21/027 H01L21/304
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
フォトレジスト剥離液[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025164820A ,2025-10-30
[2]
フォトレジスト剥離液[ja] [P]. 
KOBAYASHI TADASHI ;
NISHIJIMA YOSHITAKA .
日本专利 :JP2024014773A ,2024-02-01
[3]
レジスト剥離液及びレジストの剥離方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6249260B1 ,2017-12-20
[4]
フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2015501954A ,2015-01-19
[5]
[9]
高屈折率フォトレジスト組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024541191A ,2024-11-08
[10]
フォトレジスト用樹脂組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012026465A1 ,2013-10-28