低含水量のフォトレジスト剥離液用濃縮液の製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20100517219
申请日
2009-08-27
公开(公告)号
JPWO2010073430A1
公开(公告)日
2012-05-31
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
C07C209/84
IPC分类号
C07C209/90 C07C211/63
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
フォトレジスト剥離液[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025164820A ,2025-10-30
[2]
フォトレジスト剥離液[ja] [P]. 
KOBAYASHI TADASHI ;
NISHIJIMA YOSHITAKA .
日本专利 :JP2024014773A ,2024-02-01
[3]
フォトレジスト剥離液[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017065153A1 ,2018-07-26
[4]
レジスト剥離液とその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5885043B1 ,2016-03-15
[5]
レジスト剥離液とその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5885045B1 ,2016-03-15
[6]
ポジ型フォトレジスト及び構造体の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2005050319A1 ,2007-06-07
[10]
フォトレジスト組成物およびその硬化物[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020203790A1 ,2021-04-30