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フォトレジスト組成物およびその硬化物[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200558059
申请日
:
2020-03-27
公开(公告)号
:
JPWO2020203790A1
公开(公告)日
:
2021-04-30
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/037
IPC分类号
:
C08F290/10
G03F7/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
紫外線硬化性樹脂組成物および同組成物を含むフォトソルダーレジストインク[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002023275A1
,2004-01-22
[2]
コーティング用組成物およびフォトレジスト積層体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015080061A1
,2017-03-16
[3]
レジスト下層膜形成組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018203540A1
,2020-03-19
[4]
イオントフォレーシス投与組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005021008A1
,2007-11-01
[5]
化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020503549A
,2020-01-30
[6]
組成物および組成物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023534578A
,2023-08-10
[7]
組成物およびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2020509951A
,2020-04-02
[8]
セメント組成物用の硬化促進剤組成物[ja]
[P].
日本专利
:JP2015528793A
,2015-10-01
[9]
ポジ型フォトレジスト及び構造体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005050319A1
,2007-06-07
[10]
エラストマー物品、組成物、およびそれらの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019504924A
,2019-02-21
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