ポジ型フォトレジスト及び構造体の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20050515618

申请日：

2004-11-17

公开(公告)号：

JPWO2005050319A1

公开(公告)日：

2007-06-07

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/023

IPC分类号：

C08G8/20 C08G8/28 C08G61/10 G03F7/42 H01L21/027

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共 50 条

[1]

フォトレジスト用樹脂の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009063726A1 ,2011-03-31

[2]

ポジ型レジスト組成物、レジスト膜形成方法、及び積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019151019A1 ,2021-01-14

[3]

フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019181228A1 ,2021-04-01

[4]

ポジ型レジスト組成物、レジスト膜形成方法、および積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019065017A1 ,2020-09-10

[5]

フォトレジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2015501954A ,2015-01-19

[6]

フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト組成物および硬化物[ja] [P].

日本专利 :JP2025005535A ,2025-01-17

[7]

樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

MASUYAMA TATSURO ;

SHIMADA MASAHIKO ;

ICHIKAWA KOJI .

日本专利 :JP2022008650A ,2022-01-13

[8]

コーティング用組成物およびフォトレジスト積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015080061A1 ,2017-03-16

[9]

レジスト剥離液及びレジストの剥離方法[ja] [P].

日本专利 :JP6249260B1 ,2017-12-20

[10]

フォトレジスト剥離液[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017065153A1 ,2018-07-26

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