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ポジ型フォトレジスト及び構造体の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20050515618
申请日
:
2004-11-17
公开(公告)号
:
JPWO2005050319A1
公开(公告)日
:
2007-06-07
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F7/023
IPC分类号
:
C08G8/20
C08G8/28
C08G61/10
G03F7/42
H01L21/027
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[41]
微小構造体及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011065306A1
,2013-04-11
[42]
低分子量レジスト用共重合体の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5743858B2
,2015-07-01
[43]
ジオポリマー組成物の製造方法、ジオポリマー硬化体の製造方法、及びジオポリマー組成物調製用キット[ja]
[P].
日本专利
:JP7274034B1
,2023-05-15
[44]
電子機器製造水溶液、レジストパターンの製造方法およびデバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023519537A
,2023-05-11
[45]
電子機器製造水溶液、レジストパターンの製造方法およびデバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024526547A
,2024-07-19
[46]
電子機器製造水溶液、レジストパターンの製造方法およびデバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7747825B2
,2025-10-01
[47]
電子機器製造水溶液、レジストパターンの製造方法およびデバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7520137B2
,2024-07-22
[48]
レジオレギュラーポリチオフェン類及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011090026A1
,2013-05-23
[49]
共重合体およびポジ型レジスト組成物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020066806A1
,2021-09-02
[50]
エレクトレットの製造方法及び静電誘導型変換素子[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010095553A1
,2012-08-23
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