ポジ型レジスト組成物、レジスト膜形成方法、及び積層体の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20190569017

申请日：

2019-01-21

公开(公告)号：

JPWO2019151019A1

公开(公告)日：

2021-01-14

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/039

IPC分类号：

G03F7/004 G03F7/38

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共 50 条

[1]

ポジ型レジスト組成物、レジスト膜形成方法、および積層体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019065017A1 ,2020-09-10

[2]

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004059392A1 ,2006-04-27

[3]

重合体、ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019181582A1 ,2021-04-01

[4]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015137485A1 ,2017-04-06

[5]

レジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法、及びレジスト下層膜形成方法[ja] [P].

ISHIWATA KENTA ;

KOORI DAISUKE ;

YANO TOSHIHARU ;

KOBAYASHI NAOKI ;

ARAIDA KEISUKE .

日本专利 :JP2025009348A ,2025-01-20

[6]

ポジ型フォトレジスト及び構造体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005050319A1 ,2007-06-07

[7]

フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2012111450A1 ,2014-07-03

[8]

レジスト組成物[ja] [P].

日本专利 :JP6138312B1 ,2017-05-31

[9]

樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja] [P].

MASUYAMA TATSURO ;

SHIMADA MASAHIKO ;

ICHIKAWA KOJI .

日本专利 :JP2022008650A ,2022-01-13

[10]

ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2004077158A1 ,2006-06-08

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