レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20160507845

申请日：

2015-03-13

公开(公告)号：

JPWO2015137485A1

公开(公告)日：

2017-04-06

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C07C39/15 G03F7/038 G03F7/20

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025150335A ,2025-10-09

[2]

レジスト基材、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2016158458A1 ,2017-04-27

[3]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025177899A ,2025-12-05

[4]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP7058711B1 ,2022-04-22

[5]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

NAGAMINE TAKASHI ;

ODASHIMA RIN ;

IKEDA TAKUYA .

日本专利 :JP2024096809A ,2024-07-17

[6]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020054449A1 ,2021-08-30

[7]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025178097A ,2025-12-05

[8]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

FUJII TATSUYA ;

MURATA MARI ;

INABA YUSHI .

日本专利 :JP2024049510A ,2024-04-10

[9]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025158995A ,2025-10-17

[10]

レジスト組成物及びレジストパターン形成方法[ja] [P].

日本专利 :JP2022191182A ,2022-12-27

← 1 2 3 4 5 →